二氧化碳溶解水清洗方法

二氧化碳溶解水清洗方法

介绍

兆频超声波清洗已被用于去除集成电路器件的硅晶片制造中的缺陷，例如颗粒和聚合物/抗蚀剂残留物。然而，随着器件技术节点的缩小，兆频超声波清洗正面临着保持高清洗效率的挑战，这种高清洗效率是由较小颗粒的稳定气穴流动力促进的，而不会产生由瞬态空穴的剧烈内爆引起的图案崩溃。南。活女神等人。报道称，溶解了CO2的水(CO2 DIW)有可能通过最大限度地减少瞬时空腔的无限制爆炸来抑制兆频超声波曝光期间的晶片损坏。这是通过对声致发光的研究来实现的，声致发光是液体被足够强度的声晶片照射时释放光的现象，是空化事件的敏感指标。本文比较了在N2气化水(N2 DIW)中，在大于100纳米尺寸的Si3N4颗粒和纳米节点线/空间图案的兆频超声波功率范围内，CO2溶解对颗粒去除效率和图案塌陷的影响。

实验

实验在300毫米Akrion Systems的金手指速度工具上进行，该工具提供两种不同类型的兆频超声波清洗；前侧(FS)兆频超声波系统，石英棒连接到压电晶体(1.6兆赫)，后侧(BS)用塑料覆盖的压电材料(830千赫)，如图1所示。二氧化碳(约。1000ppm) DIW和N2(约。20ppm) DIW是使用在一定压力下连续充入CO2或N2的每个膜制备的。对于颗粒去除